行星式球磨机罐内粉末粘附于罐壁及沉淀团聚的原因

对于行星式球磨机，我们通常将研磨后的颗粒粒度分布分为以下几个等级：毫米-微米级（3 mm–10 μm）、亚微米级（10 μm–3 μm）和纳米级（3 μm–1 ​​nm）。一般来说，从毫米级到微米级的研磨过程非常顺利，可以通过使用行星式球磨机快速实现。 氧化锆珠 粒径分别为 15 毫米、10 毫米和 5 毫米。然而，从微米级研磨到亚微米级乃至纳米级都面临着一些挑战，例如粉末会紧紧粘附在研磨罐内壁上或在底部结块。原因如下：

1. 内壁光滑度低的研磨罐容易粘附粉末。
2. 例如，熔点低的材料在研磨过程中可能会因温度过高而发生冷焊。
3. 如果粉末含水量高，这种粒径的粉末会在水分子的作用下发生团聚。此外，粉末自身产生的静电也会使其粘附在研磨球和研磨罐内壁上。

由于上述因素，约有50%的物料将无法进一步精制，因此需要及时调整研磨方案以用于后续实验。调整措施包括更换表面光滑度更高的研磨罐、去除样品中的水分、降低球磨机的操作温度，或使用其他方法。 研磨介质 较小的颗粒尺寸有助于粉末研磨。通常，干磨可以将大多数物料研磨至 3 mm 至 10 μm 的粒径范围。湿磨条件更有利，通常可以达到纳米级。然而，对于粉末加工而言，只要条件允许，干磨仍然是首选，因为在许多实验中，尽量减少后续处理步骤是一种常见的做法。

解决方案：

1. 此时，建议将粉末分离，并改用聚氨酯槽进行超细研磨。之所以选择两步研磨，是因为陶瓷粉末在粒径达到10微米时，其自身开始变得粘稠。如果使用表面光洁度较低的研磨槽，粉末容易粘附在槽壁上。即使氧化锆的光学表面光洁度已经相当高，仍然会出现粘附现象。聚氨酯槽作为所有研磨槽中表面光洁度最高的材料，发挥着不可替代的作用。
2. 此时，规模 氧化锆研磨球 粒径减小至1-3毫米。通过这种研磨方法，粉末可以进入约3微米的粒径范围。如果继续进行研磨，粉末的进料空间将受到限制。主要问题仍然是粘附现象。此外，还需要使用更小的微珠。此时，微珠和粉末会分离，这是另一个关键点。除非这类陶瓷的表面活性很强，否则可以通过再次干磨将其重新研磨至纳米级。